氮化材料行業(yè)在我國發(fā)展的還是很不錯的，因為氮化材料的應(yīng)用很廣泛，采用陰電弧等離子體沉積技術(shù)。陰電弧等離子體沉積是相對較新的薄膜沉積技術(shù)，它在許多方面類似于離子鍍技術(shù)。其優(yōu)點：在發(fā)射的粒子流中離化率高，而且這些離化的離子具有較高的動能（40-100eV)。許多離子束沉積的優(yōu)點，如提粘著力，增加態(tài)密度、對化合物膜形成具有高反應(yīng)率等優(yōu)點在陰電弧等離子體沉積中均有所體現(xiàn)。而陰電弧等離子體沉積又具有自己一些獨特優(yōu)點，如可在較多復(fù)雜形狀基片上進行沉積，沉積率高，涂層均勻性好，基片溫度低，易于制備理想化學(xué)配比的化合物或合金。通過蒸發(fā)過程將陰材料蒸發(fā)是源于高電流密度，所得到的蒸發(fā)物由電子、離子、中心氣相原子和微粒組成。在陰電弧點，材料幾乎被離化，這里離子在幾乎垂直于陰表面的方向發(fā)射出去，當帶有高能量的鉻離子碰到氮氣后便會馬上產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，變成氣態(tài)的氮化鉻分子了。